制备双面大面积BDD电极的HFCVD设备流场仿真与结构设计
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制备双面大面积BDD电极的HFCVD设备流场仿真与结构设计

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用热丝化学气相沉积(HFCVD)法制备双面大面积掺硼金刚石(BDD)电极时,沉积系统的气体流场均匀性对薄膜质量均匀性有着重要影响.针对大面积BDD电极制备的设备流场问题,采用仿真分析,研究了相关结构与流场的关系.通过设计均匀分散的进出气口以及在基板四周配置宽度为20 mm的减速板,可以有效消除横向流速差和边缘流速峰值,与结构改进之前相比能显著提高流场均匀性,高低流速差值从0.04 m/s降低到0.005 m/s.研究结果为薄膜的均匀制备提供了必要条件.

掺硼金刚石、热丝化学气相沉积设备、气体流场

33

TG74(刀具、磨料、磨具、夹具、模具和手工具)

国家自然科学基金资助51075211、51275230;教育部博士点基金项目20113218110018;南京航空航天大学研究生创新基金资助kfjj20110226

2013-06-03(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

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金刚石与磨料磨具工程

1006-852X

41-1243/TG

33

2013,33(2)

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