氮化铝陶瓷基片的集群磁流变效应研磨加工
采用集群磁流变效应研磨加工方法对氮化铝(AIN)陶瓷基片进行研磨加工,系统地分析了主要工艺参数的影响和最终经过精密研磨后的加工表面形貌特征.结果表明,集群磁流变效应研磨加工方法可以实现对氮化铝(AIN)陶瓷基片的高效率高精度研磨加工,原始表面Ra1.730 μm经过粗研10 min和精研30 min后可以达到0.029 μm,下降两个数量级.在粗研阶段,选用二氧化硅磨料#4000、磨料体积分数12%、研磨盘转速150 r/min、研磨压力3.5 kPa,可以获得较高的材料去除率和较光滑的加工表面.
氮化铝(AIN)陶瓷基片、集群磁流变效应、研磨加工、表面粗糙度
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TG58(金属切削加工及机床)
深圳职业技术学院重点项目;深圳市科技计划
2013-03-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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