10.3969/j.issn.1006-852X.2011.02.005
正偏压对微波等离子体CVD法制备金刚石薄膜的影响
线形同轴耦合式微波等离子体CVD法是在硬质合金微型钻头(微钻)表面沉积金刚石涂层的最佳方法之一.本文首先研究了酸碱两步预处理后微钻表面的形貌和成分,然后研究了微钻工作表面金刚石的沉积情况,最后重点研究了正偏压对微钻不同位置金刚石生长的影响.结果表明,在微钻上施加50 V正偏压时,金刚石薄膜具有最佳的形貌和较好的均匀性.
金刚石薄膜、酸碱两步法、微型钻头、正偏压
31
TQ164
2011-07-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
22-26