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10.3969/j.issn.1006-852X.2010.01.012

Si3N4晶须结合剂合成PCBN微观组织结构的研究

引用
本文以Si3N4晶须为结合剂,高温高压下合成了聚晶立方氮化硼,烧结压力为5~7 GPa,温度为1 400~1 500 ℃,选用了石墨管 + NaCl管+ 钼杯组装方式.采用金相显微镜、扫描电镜和X射线衍射仪等仪器设备研究了产品PCBN的组织结构.金相显微镜结果表明,PCBN的表面组织比较均匀.扫描电镜结果表明,PCBN的烧结情况良好,结合剂对CBN高温润湿情况良好.X射线衍射结果表明,有新的物相生成.

Si3N4晶须、PCBN、微观结构

30

TQ164;TG74

河南省杰出创新人才计划0621001200

2010-05-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

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