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10.3969/j.issn.1006-852X.2009.05.002

射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类

引用
使用射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积技术(简称RFGDPECVD)在玻璃载玻片表面沉积类金刚石薄膜.用原子力显微镜(AFM)、摩擦试验仪、划痕试验机测定了其表面形貌、耐磨性及附着性.采用X射线光电子能谱(XPS)、分光光度计对两种气源(C4H10、C2H2)制备的DLC薄膜微观组成和透光率进行了检测和对比.结果表明:DLC薄膜的表面光滑、平整,表面粗糙度随沉积时间的增加单调递增;耐磨性及附着性优良;与C4H10相比使用C2H2作为碳源气体可以得到较高sp3含量和较低sp1含量的DLC膜;C2H2制备DLC薄膜的透光率低于C4H10;同一种碳源气体,反应流量比例越小,则DLC薄膜的透光性越好.

射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积、类金刚石薄膜、放电特性

TQ164;TB43

国家自然科学基金;山东省自然科学基金;山东省博士后科研创新专项基金

2009-12-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

7-12

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1006-852X

41-1243/TG

2009,(5)

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