圆柱形衬底上高质量金刚石薄膜制备工艺研究

摘要：

本文以丙酮和氢气为气源,采用优化钽丝排列分布的偏压增强热丝CVD装置对钨丝衬底进行了金刚石薄膜沉积研究.采用扫描电镜(SEM)、拉曼(Raman)光谱等方法检测了金刚石薄膜的质量,分析了沉积工艺对金刚石形核和生长的影响.研究结果分析表明,当直径为1mm的钨丝与热丝之间的最佳距离为4-6mm且反应压力为4665.5Pa、碳源浓度为1.8%时可得到涂层厚度均匀又能覆盖整个钨丝外表面的高质量金刚石薄膜,为以后的自支撑的金刚石薄膜管的制备和回转体刀具的外表面金刚石涂层打下基础.

关键词：金刚石薄膜、偏压增强热丝CVD法、圆柱形衬底、高质量

分类号：TG174.4(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金;国家高技术研究发展计划（863计划）

在线出版日期：2005-08-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：26-29