化学气相沉积过程中Si的引入对硬质合金金刚石涂层附着力的影响

摘要：

利用微波等离子体化学气相沉积方法,以H2、CH4和八甲基环四硅氧烷(D4)为原料,在硬质合金基体上沉积了金刚石涂层.与一般只使用H2、CH4为原料时的情况相比,金刚石涂层与硬质合金基体间的附着力有了一定程度的提高.对涂层断面的成分分析表明,Si在涂层与基体间的界面处有富集的倾向,而这将有助于抑制Co对涂层附着力的不利影响,提高金刚石涂层的附着力.

关键词：微波等离子体化学气相沉积、八甲基环四硅氧烷、金刚石涂层、附着力、硬质合金

分类号：TQ164

在线出版日期：2005-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：31-35