宽光谱穆勒矩阵椭偏技术的拓展应用

摘要：

为了解决现有光谱穆勒矩阵椭偏检测仪的测量功能固定、不能根据实验需求满足更多物理量测量的问题,提出了结合多物理场光学仿真与宽光谱穆勒矩阵椭偏测量数据,以实现更多参数测量的新方案.以膜厚测量为实例,通过比较硅基底上不同厚度、不同入射角下,二氧化硅薄膜仿真值与椭偏仪实验测量值所得穆勒矩阵的匹配度,得到均方误差值相对最小时的二氧化硅薄膜厚度值.结果表明,所得膜厚结果与实际值符合得较好.该研究验证了光谱穆勒矩阵椭偏测量与仿真模拟相结合方法的可行性和有效性.

关键词：几何光学、椭偏技术、仿真、穆勒矩阵

分类号：O436.3(光学)

资助基金：国家重点研发计划2019YFE03080400

在线出版日期：2024-02-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：71-76