新型光刻技术研究进展

摘要：

集成电路光刻作为传统光刻技术的典型代表,支撑着集成电路芯片的快速发展.新一代光刻技术具有工艺多样化、光刻精度高、光刻效率高的优点,在研发新型光电子器件、实现3 维微纳结构、构建有序纳米孔通道等方面有很大的潜力.回顾了近些年来涌现的多种新型光刻技术,分析了各自的特征及在新型纳米电子、光子器件、能源、传感等领域中的应用.对未来光刻技术的发展方向进行了展望.

关键词：激光技术、光学制造、新型光刻技术、无掩模光刻、掩模光刻、微纳结构

所属期刊栏目：43

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2019-02-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：30-37