皮秒激光抛光KDP晶体的工艺研究

摘要：

为了改变KDP晶体精密加工难和效率低的状态,采用皮秒超快激光抛光KDP晶体的新方法,系统地研究了激光波长、单脉冲能量密度、激光束入射角、光斑搭接率、扫描方式以及激光焦深等因素对激光抛光KDP晶体质量的影响规律,并对激光与KDP晶体的相互作用机理进行了分析.结果表明,在皮秒激光波长 λ=355nm、聚焦镜焦距 f=56mm、激光束入射角α=84°、激光重复频率F=800kHz、脉冲能量密度Q=2.4J/cm2、光斑搭接率O=60%、45°多方向交叉扫描以及加工次数T=10次的优化参量条件下,KDP晶体表面粗糙度均方根值可达到76nm.这一结果使激光抛光技术的研究得到了进一步补充.

关键词：激光技术、激光抛光、工艺研究、KDP晶体、表面粗糙度

所属期刊栏目：42

分类号：O786(晶体生长)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51475182,51675205

在线出版日期：2018-03-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：166-171