10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2016.03.008
干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响
为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能,了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响,基于曝光量表达式,结合光栅掩模槽形二元模型,采用理论分析和数值计算的方法,分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度,导致掩模槽形的可控性下降,其影响具有一致性;为保证曝光对比度达到0.95,低频漂移均方根值应控制在0.05个条纹周期以内;小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略;低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明,为获取合格的光栅掩模,应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系,并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1/20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。
光栅、光栅曝光、数值计算、条纹相位变化、曝光对比度、掩模槽形
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O438.1(光学)
国家重大科学仪器设备开发专项基金资助项目2011 YQ120023
2016-06-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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