干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响

摘要：

为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能，了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响，基于曝光量表达式，结合光栅掩模槽形二元模型，采用理论分析和数值计算的方法，分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度，导致掩模槽形的可控性下降，其影响具有一致性；为保证曝光对比度达到0．95，低频漂移均方根值应控制在0．05个条纹周期以内；小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略；低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明，为获取合格的光栅掩模，应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系，并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1／20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。

关键词：光栅、光栅曝光、数值计算、条纹相位变化、曝光对比度、掩模槽形

所属期刊栏目：40

分类号：O438.1(光学)

资助基金：国家重大科学仪器设备开发专项基金资助项目2011 YQ120023

在线出版日期：2016-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：339-343