离子束溅射、热舟和电子束法制备深紫外 LaF3薄膜

摘要：

　　为了满足深紫外光刻物镜对薄膜的要求，得到低损耗、高稳定性、长寿命的深紫外薄膜，需要选用适当的镀膜工艺方法。分别选取了离子束溅射法、热舟蒸发法和电子束蒸发法优化后的最佳工艺参量，在融石英基底上使用3种方法镀制了单层LaF3薄膜。首先，利用光度法得出3种方法镀制LaF3薄膜在185nm～800nm范围内的折射率n和消光系数k。然后，采用原子力显微镜对薄膜表面粗糙度进行了测量。最后，薄膜的微结构使用X射线衍射仪进行了分析。结果表明，离子束溅射镀制的LaF3薄膜折射率最高、表面粗糙度最低，但吸收较大；电子束蒸发法虽然吸收最小，但是折射率偏低且表面粗糙度较高；热舟蒸发法镀制的LaF3薄膜无论折射率、消光系数还是表面粗糙度都处于3种方法中间位置。综合各项指标，热舟蒸发法最适合于沉积深紫外LaF3薄膜。

关键词：薄膜、LaF3、热蒸发、离子束溅射、深紫外

分类号：O484.4+1(固体物理学)

资助基金：国家科技重大专项资助项目2009ZX02205

在线出版日期：2013-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：592-595