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10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2013.02.025

InSb光电导太赫兹辐射理论研究

引用
为了研究锑化铟(InSb)半导体材料的光电导太赫兹辐射过程,推导了太赫兹近场辐射公式.在考虑俄歇弛豫机制对光电导过程影响的情况下,分析了InSb光生载流子浓度、载流子散射率以及光电导表面反射率随时间的变化.结果表明,数值模拟与文献中的实验曲线变化趋势一致,计算结果吻合,证明了该研究方法的正确性.

激光物理、太赫兹辐射、光电导、锑化铟、俄歇弛豫

37

O431.1(光学)

重庆市自然科学基金资助项目CSTC2010BB2414

2013-05-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

239-242

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1001-3806

51-1125/TN

37

2013,37(2)

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