193nm薄膜激光诱导损伤研究

摘要：

概述了193nm薄膜激光诱导损伤的研究进展.通过对紫外到深紫外波段几种典型薄膜损伤形貌的介绍,对比分析了193nm薄膜激光诱导损伤的可能原因.指出在该波段的氧化物薄膜损伤中,吸收是导致薄膜大块损伤的重要因素,而氟化物的薄膜损伤则是由沉积过程的膜层局部缺陷造成.根据薄膜样品的损伤分析表明,薄膜的某些制备参量与激光损伤阈值相关联.为提高薄膜元件的抗激光损伤能力,分别从薄膜材料的选择、膜系设计的完善以及沉积工艺的优化等3个方面出发,总结出改善薄膜激光损伤阈值的方法.

关键词：薄膜、193nm、损伤形貌、激光损伤阈值

所属期刊栏目：35

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2011-09-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：308-311