退火温度对HfO2薄膜应力和光学特性的影响

摘要：

为了研究退火温度对HfO2薄膜应力、光学常数和表面粗糙度的影响,采用电子枪蒸镀法制备了薄膜样品,在不同温度下进行了退火处理.利用ZYGO干涉仪、UV-3101PC分光光度计、X射线衍射仪和冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明,在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是无定形结构;残余应力均为张应力,且随退火温度的升高呈先减小后增大现象,在300℃退火条件下具有最小应力;HfO2薄膜折射率随退火温度的升高而增大,并且色散减小;低温退火可以提高HfO2薄膜的平整度,高温退火反而会使HfO2薄膜表面粗糙度增加.这些结果可以为制备高质量HfO2薄膜提供参考.

关键词：薄膜、HfO2薄膜、残余应力、退火、微结构、折射率

所属期刊栏目：35

分类号：O484.4(固体物理学)

在线出版日期：2011-05-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：182-184,188