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KTP倍频晶体增透膜的改进

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为了改进KTP晶体倍频增透膜的镀膜质量,采用SiO2代替原来使用的MgF2材料作外层膜并重新设计了膜系.实验结果表明,运用上述技术将镀有1064nm和532nm增透膜的KTP倍频晶体应用在高功率Nd∶ YAG激光器中,当重复频率1kHz、脉宽25ns、基波功率密度高达450MW/cm2时,没有观察到KTP晶体表面激光损伤,膜层表面抗激光损伤和光学性能都得到提高.

薄膜、增透膜、KTP晶体、激光损伤阈值

33

O484.4(固体物理学)

国家自然科学基金资助项目60478009

2009-06-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

249-251

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激光技术

1001-3806

51-1125/TN

33

2009,33(3)

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