脉冲激光沉积Al膜的沉积模式及沉积速率研究

摘要：

为了给脉冲激光沉积(PLD)法沉积大面积均匀薄膜的应用提供相关的理论依据,以纯铝块作为靶材,采用PLD法在同轴和旁轴两种模式下对比研究了 Al薄膜的厚度均匀性.同时,在旁轴的沉积模式下分别研究了基片温度、激光功率和重复频率对Al薄膜沉积速率的影响规律.实验结果表明,采用PLD方法在旁轴的沉积模式下获得的Al薄膜的厚度更加均匀.随着基片温度的增加,薄膜的沉积速率反而降低.升高激光功率,薄膜的沉积速率也随之提高.而在激光重复频率的变化过程中,Al薄膜的沉积速率有一最大值.

关键词：薄膜、脉冲激光沉积、沉积模式、厚度均匀性、沉积速率

所属期刊栏目：30

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2006-07-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：265-267,310