激光等离子体和气体放电EUV光刻光源

摘要：

对激光等离子体和气体放电两种EUV光刻光源的发展状况进行了详细介绍,分析了各种激光条件和放电方式的特点及所面临的主要问题,对各种方案的特点、技术参数进行了对比.气体放电装置较高能激光装置结构简单、价格低,故气体放电EUV光源日益受到重视.

关键词：极紫外光刻、EUV光刻光源、激光等离子体、气体放电

所属期刊栏目：28

分类号：O434.19(光学)

在线出版日期：2005-01-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：561-564