10.3969/j.issn.1001-3806.2004.06.001
激光等离子体和气体放电EUV光刻光源
对激光等离子体和气体放电两种EUV光刻光源的发展状况进行了详细介绍,分析了各种激光条件和放电方式的特点及所面临的主要问题,对各种方案的特点、技术参数进行了对比.气体放电装置较高能激光装置结构简单、价格低,故气体放电EUV光源日益受到重视.
极紫外光刻、EUV光刻光源、激光等离子体、气体放电
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O434.19(光学)
2005-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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