灰度掩模制作统掩模图形的生成及工艺研究

摘要：

灰度掩模法是目前正在积极探索的一种二元光学器件制作方法.从基于空间光调制器的灰度掩模制作方法出发,就"掩模图形的生成"和"工艺"这两个难点问题进行了深入的研究,并具体地制作了几种常用的二元光学器件的灰度掩模,为该方法进一步投入实用提供了一条较好的思路.

关键词：空间光调制器、灰度掩模、工艺、二元光学

所属期刊栏目：28

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金50005022

在线出版日期：2004-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：406-409