10.3969/j.issn.1001-3806.2004.03.005
用于光波导的高性能聚合物薄膜制备工艺研究
讨论了在硅基片上旋涂用于光波导的PS聚合物薄膜时,部分工艺参数,如溶液浓度、旋涂转速、溶剂挥发性、吸水性等对薄膜质量的影响,得到了薄膜厚度随浓度和转速变化的经验公式.分析了造成薄膜缺陷的原因,并对薄膜的性能如薄膜厚度、红外吸收特性和表面轮廓进行了测试.
光波导、薄膜、旋涂、聚合物
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O484.4+1(固体物理学)
国家高技术研究发展计划863计划2001AA312170
2004-07-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
315-318