10.3969/j.issn.1001-3806.2004.03.003
CO2激光辐照下光学薄膜的温度场与热畸变
介绍了光学薄膜温度场的基本理论,利用交替隐型技术,对10.6μm激光辐照下介质薄膜的温度场分布进行了数值模拟和理论分析.在此基础上,利用夏克-哈特曼波前传感器对介质基底样品、不同厚度的介质单层膜样品以及不同膜系的YbF3/ZnSe介质多层膜样品在10.6μm CO2激光辐照下的热畸变进行了实验研究.研究结果表明,激光辐照下光学薄膜样品的温度场分布与辐照激光的光场分布、激光功率以及激光的辐照时间等因素有关.对于10.6μm激光而言,Ge最适宜做基底材料.
光学薄膜、温度场、热畸变、10.6μm激光
28
O432.2;O484(光学)
2004-07-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
255-258