10.3969/j.issn.1001-3806.1999.05.003
ArF准分子激光光刻的研究现状
193nm ArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用.
光刻、准分子激光、VLSI
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TN2(光电子技术、激光技术)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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