利用化学溶液法制备硫化铅薄膜及其特性研究

摘要：

通过化学溶液法在玻璃基片上沉积硫化铅(PbS)薄膜,利用原子力显微镜(AFM)分析薄膜的表面形貌,采用X射线衍射(XRD)技术分析薄膜的结晶性能,利用透射光谱分析薄膜的光学性质.研究了退火对PbS薄膜性能的影响.结果表明:经过250℃退火处理,减小了PbS薄膜表面颗粒的平均高度,细化了PbS薄膜的晶粒大小,并改善了PbS薄膜表面形貌的均匀性;退火不改变PbS薄膜的晶体结构,其晶体结构依然是立方晶型;但退火后PbS薄膜的透过率明显降低.

关键词：硫化铅薄膜;化学浴沉积法;退火

分类号：TN213(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2022-02-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：55-58,89