纳米晶Ni-Mo合金电沉积工艺
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10.3404/j.issn.1672-7649.2011.12.030

纳米晶Ni-Mo合金电沉积工艺

引用
采用电沉积法制备Ni-Mo合金电极,通过测定电极在30% KOH溶液中的阴极极化曲线,研究不同沉积条件(钼盐浓度、pH值、沉积电流密度、沉积温度)对镀层析氢性能的影响,并用XRD、SEM对镀层进行了表征.结果表明:所获得的镀层为纳米晶结构,镀层表面颗粒分布均匀且具有很大的比表面积.通过正交实验确定了最佳电沉积工艺条件:钼盐浓度32 g/L,pH值8.0,沉积电流密度22 A·dm-2,温度50℃.最佳工艺条件制备出的Ni-Mo合金电极的析氢过电位仅为68 mV,比纯Ni电极降低348 mV.

Ni-Mo合金、电沉积、析氢反应、过电位

33

O646.54(物理化学(理论化学)、化学物理学)

2012-03-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

125-128

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1672-7649

11-1885/U

33

2011,33(12)

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