贴片电阻银离子迁移的分析
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

10.3969/j.issn.1672-5247.2014.z2.069

贴片电阻银离子迁移的分析

引用
电子控制器元器件贴片化已经是目前十分普及的,但由于普通贴片电阻本体的结构问题,在恶劣的使用环境下会实效;其中银离子迁移导致电阻阻值永久性减少,从而导致实效的情况也时有发生;本文将对实效的样品,利用先进的设备下进行系统的分析,呈现出其实效的内部原因,并提出相应的改善方案。

贴片电阻、银离子迁移、ESD、抗硫化

O51;TN3

2014-09-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

291-293

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

IT时代周刊

1672-5247

44-1593/TN

2014,(z2)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn