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10.3969/j.issn.1007-7812.2012.06.020

化学腐蚀法制备纳米多孔硅及其表面形貌表征

引用
采用化学腐蚀法制备了纳米多孔硅粉.利用扫描电子显微镜对多孔硅粉的表面形貌进行了表征.结果表明,在HNO3浓度、反应时间和HNO3滴加时间3种因素中,HNO3浓度对硅粉的腐蚀效果影响最大;浓度过高或者较低时,均不能获得良好的硅粉形貌.HNO3质量分数以20%~25%为宜.反应时间对硅粉结构和形貌的影响比硝酸的滴加速率大.在较低HNO3浓度条件下,延长反应时间对硅粉进行腐蚀更为有效.

材料科学、多孔硅粉、表面形貌、含能材料、化学腐蚀法

35

TJ55;X93(爆破器材、烟火器材、火炸药)

2013-03-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

86-88,93

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1007-7812

61-1310/TJ

35

2012,35(6)

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