盐酸雷尼替丁印迹聚合物膜电极的制备与应用

摘要：

研究了盐酸雷尼替丁印迹聚合物离子选择性电极的制备、特性及应用.该电极在1.0×10~(-5)～1.0×10~(-2) mol /L范围内表现能斯特响应,斜率为-28.18mV/pC,检测下限为5.2×10_(-6)mol/L,原料回收率为96.8%～104.6%.该电极与先前报道的电极相比,具有更高的选择性、灵敏性和抗干扰性.利用该电极对雷尼替丁原料、胶囊含量进行了测定,结果与药典法一致.

关键词：分子印迹聚合物、盐酸雷尼替丁、离子选择性电极、聚氯乙烯膜

所属期刊栏目：22

分类号：O657.1(分析化学)

资助基金：河北省科技厅重点资助项目07276101D-37

在线出版日期：2010-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：440-443