HPMA/OMMT和HPMA/CPMI/OMMT纳米复合材料的制备与表征

摘要：

通过甲基丙烯酸羟丙酯(HPMA)单体与N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺(CPMI)单体在有机蒙脱土(OMMT)中经原位插层自由基聚合反应制备了聚合物-无机纳米复合材料.OMMT由钠基蒙脱土通过十六烷基溴化铵插层处理制备.通过XRD和TEM对复合材料结构进行了表征,证实HPMA单体和HPMA/CPMI共单体在OMMT中原位插层共聚得到的复合材料均为剥离型纳米复合材料.OMMT含量为3 wt%的PolyHPMA/OMMT纳米复合材料起始分解温度为250℃,比相应的纯聚合物的热分解温度提高30℃.随着OMMT含量的增加,热分解温度进一步提高.但在测试温度范围内,PolyHPMA/OMMT纳米复合材料均没有出现明显的玻璃化转变温度.

关键词：甲基丙烯酸羟丙酯、N-(4-羧基苯基)马来酰亚胺、蒙脱土、纳米复合材料

所属期刊栏目：21

分类号：O632.52(高分子化学（高聚物）)

在线出版日期：2009-05-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：317-321