磷钨钴和磷钨镍杂多酸化学修饰电极的研究

摘要：

@@ 杂多酸由于组成和结构上的特点,在电化学和电分析化学领域有着广泛应用[1,2].迄今为止,有关磷钨钴和磷钨镍三元杂多酸化学修饰电极还未见报道.本文按文献方法[3]合成了磷钨钴(H3PW11CoO40·xH2O)和磷钨镍(H3PW11NiO40·xH2O)杂多酸,分别以H3PW12O40·xH2O、H3PW11CoO40·xH2O和H3PW11NiO40·xH2O杂多酸(以下简写为H3PW11MO40·xH2O,其中M代表W,Co和Ni)为修饰剂,采用电化学方法在导电基体玻碳(GC)电极上制备了H3PW11MO40/GC膜修饰电极,制备过程简便、快速.对膜电极的电化学性能进行了研究,探讨了电解质溶液、溶剂、pH值、扫速等因素对膜电极伏安行为的影响.

关键词：磷钨钴、磷钨镍、化学修饰电极

所属期刊栏目：12

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2007-03-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：97-99