10.3969/j.issn.1008-1011.2009.03.019
衬底温度对HfOxNy薄膜光学性质的影响
采用射频反应磁控溅射法制备了HfOxNy 栅介质薄膜,并研究了HfOxNy 栅介质薄膜的光学特性随淀积温度的变化而发生变化的规律. 椭偏仪模拟结果显示HfOxNy 薄膜的折射率和消光系数都是随衬底温度的升高而增加,根据消光系数和吸收系数还得到了HfOxNy 薄膜的光学带隙值,随着衬底温度的升高,带隙减小,这主要是由于N 含量的增加所致.
HfOxNy薄膜、射频反应磁控溅射、椭偏仪、光学特性
20
O484(固体物理学)
2009-12-15(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
77-79