直流负偏压对类金刚石薄膜结构的影响

摘要：

在不同的直流负偏压下利用直流射频等离子体辅助化学气相沉积技术在单晶硅表面沉积得到了类金刚石薄膜,用拉曼光谱、红外光谱和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了表征.结果表明:无偏压时,沉积得到的薄膜呈现类聚合物结构且表面比较粗糙,而叠加了偏压后,薄膜表现出类金刚石薄膜的结构特征,随着偏压的增大,膜中的氢含量和sp3碳含量均逐渐减小,且薄膜的表面粗糙度逐渐减小.

关键词：直流负偏压、类金刚石薄膜、等离子体、气相沉积

所属期刊栏目：16

分类号：TB383(工程材料学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA302607

在线出版日期：2005-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：35-38