10.3969/j.issn.1008-1011.2000.02.004
N-甲基吡咯烷酮与HnXW12O40@m H2O(X=P,si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及非线性光学性质研究
由N-甲基吡咯烷酮和HnXW12O40@mH2O(X=P,Si,Ge)合成了具有非线性光学性质的电荷转移盐,(NMPH)3PW12O40@CH3CN(I),(NMPH)4Si W12O40@CH3CN(Ⅱ)和(NMPH)4GeW12O40@CH3CN(Ⅲ).并由元素分析,红外光谱,漫反射电子光谱进行了表征.结果表明杂多酸形成电荷转移盐后其阴离子结构未变;N-甲基吡咯烷酮通过N原子与酸中的质子H+结合成阳离子而成盐,光激发下阴阳离子之间可以发生电荷转移,非线性光学性性质研究表明,电荷转移盐的倍频效应强度分别为I2w/Ⅰ=o.6IKDP,I2w/Ⅱ=0.85和I2w/Ⅲ=0.41IKDP,三阶非线性系数分别为X(3)/Ⅰ=1.60×10-12 esu,X(3)/Ⅱ=3.6×10-12esu,X(3)/Ⅲ=1.2×10-11 esu.
杂多酸、N-甲基吡咯烷酮、非线性光学性质
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O624.42(有机化学)
国家自然科学基金29601002;河南省自然科学基金974041900;河南省教委自然科学基金96150016
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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