[NiFe/Cu/Co/Cu]_n纳米多层线的电化学制备及表征

摘要：

采用电沉积法,在阳极氧化铝（AAO）模板中制备了[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线.利用扫描电子显微镜（SEM）及透射电子显微镜（TEM）对纳米多层线的表面形貌及结构进行了表征,纳米线阵列高度有序、直径均一、层状结构清晰,NiFe层厚度约40 nm,Cu层厚度约60 nm,Co层厚度约15 nm,各子层厚度可控.利用X射线能谱分析仪（EDS）对纳米多层线NiFe层的成分进行了测试,Ni,Fe的原子比为4∶1.利用X射线衍射仪（XRD）对[NiFe/Cu/Co/Cu]n纳米多层膜和多层线结构进行了测试,多层膜为面心立方（fcc）结构,多层线NiFe层为面心立方（fcc）结构,Cu层为六方密排hcp（100）,Co层为面心立方（fcc）结构.与组成、结构完全相同的多层膜相比,[NiFe/Cu/Co/Cu]n多层纳米线具有更优越的巨磁电阻性能.

关键词：[NiFe/Cu/Co/Cu]n、纳米多层线、电化学、表征

所属期刊栏目：70

分类号：TB383(工程材料学)

资助基金：天津市自然科学基金重点项目G08JCZDJC17400

在线出版日期：2012-04-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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