带坑WO3单晶纳米片的合成与光学性能

摘要：

以介孔二氧化硅（SBA-15）为硬模板,钨酸钠（Na2WO4·2H2O）为钨源,在酸性条件下,用改进的浸渍-还原法合成了具有纳米坑结构的单晶片状WO3材料.用X射线衍射（XRD）、能量扩散X射线（EDX）、扫描电子显微镜（SEM）、高分辨透射电镜（HRTEM）和紫外-可见光区透射光谱（UV-Vis）等手段对产物的组成、形貌和光学性能进行了表征.结果表明,获得的产物为带有纳米坑结构的单晶片状WO3,且在近紫外-可见光区具有较高的透射率.此外,随着煅烧温度的升高,WO3由单斜相转变为单斜相与正交相的混合相,WO3薄膜的紫外-可见光透射率随煅烧温度升高而升高.

关键词：SBA-15、浸渍-还原法、纳米坑、WO3

所属期刊栏目：69

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：福建省自然科学基金2008J0146

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：2955-2958