化学成份在钧瓷胎釉反应层中分布模式的线扫描分析

摘要：

利用能量色散X射线荧光(EDXRF)探针,对一批金元时期的钧瓷样品进行了线扫描分析,以研究钧瓷胎釉间薄层物质的性质及其它相关问题.结果显示,胎釉间薄层物质的化学组成介于胎釉之间,因此其应为在烧制过程中形成的反应层.分析还发现,反应层中的K2O含量高于瓷釉和瓷胎,与其它氧化物均有不同.推断反应层中K2O含量高的现象,是瓷釉和反应层中特定的SiO2和Al2O3组成,硅酸盐玻璃的特定网络结构,以及SiO2,A12O3及K2O在玻璃体中的作用和特性等因素的综合作用结果,而非单纯的K+具有较强的渗透能力所致.

关键词：钧瓷、反应层、化学成份、线扫描、EDXRF

所属期刊栏目：69

分类号：TQ174.43

资助基金：中央高校基本科研业务费专项资金项目112275967;武汉大学人文社会科学"70后"学者学术团队建设计划资助项目

在线出版日期：2011-07-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：912-918