一系列单硅烷-寡聚噻吩共聚高分子膜中电荷载流子及其迁移率的研究

摘要：

研究了一系列由单硅烷和寡聚噻吩组成的共聚高分子膜在较宽掺杂电位范围内的光谱电化学变化规律.用PSnT表爪这一系列共聚高分子,其中n表示高分子链上寡聚噻吩单元中噻吩环的个数,n分别为5,7,8,10和14.结果表明在一定的掺杂电位范围内这些PSnT膜可以可逆地电致变色.PSnT膜的光谱电化学和循环伏安研究均表明在电化学掺杂过程中PSnT膜中的寡聚噻吩单元可被两步氧化.第一步氧化生成极子,极子可二聚形成π-dimers,两者之间存在着平衡.而第二步氧化生成双极子.双极子不能稳定存在于PS5T和PS7T膜中,但可稳定存在于其它具有更长寡聚噻吩单元的PSnT膜中.结合PSnT膜在不同电位下的表观迁移率数据讨论了膜中各种载流子对表观迁移率的影响.表明当掺杂电位低于两步氧化过程的平均电位E_(mean)时,膜中表观迁移率的增加主要是由于π-dimers的形成及数量增加所引起的.随着寡聚噻吩共轭长度(n)的增加,π-dimers更易形成,因此PSnT膜中载流子的表观迁移率在更低的掺杂电位下开始增加并具有更大的增幅.

关键词：寡聚噻吩、共聚物、光谱电化学、掺杂、载流子

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分类号：O6(化学)

资助基金：国家自然科学基金20773066;20772057;教育部留学叫国人员科研启动基金及人事部留学回国人员科研基金

在线出版日期：2010-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：2655-2661