锰欠电位沉积的密度泛函计算与循环伏安实验的研究

摘要：

用密度泛函计算和循环伏安法研究了锰在金和铅表面的欠电位沉积(UPD)行为.理论计算,假设生成紧密的二维相(2D)欠电位沉积层,用基于密度泛函理论的DMol3软件计算在金与铅表面生成2D相锰层的欠电位偏移值△fE2AMe,证明锰在金表面可发生欠电位沉积,而在铅表面不能发生欠电位沉积.循环伏安实验结果与理论计算不一致:金电极析氢电位高不利于研究锰的还原沉积反应,没有发现锰的欠电位沉积现象;铅电极在MnCl2溶液中有锰的欠电位沉积现象.这种理论计算与电化学实验结果的差异,主要是因为理论计算没有考虑溶剂与阴离子特性吸附作用的影响,理论计算模型是电化学实验体系的一种理想模型.

关键词：锰、欠电位沉积、密度泛函计算、循环伏安法

所属期刊栏目：67

分类号：O6(化学)

资助基金：重庆市自然科学基金重点项目CSTC;2008BC4020

在线出版日期：2009-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：529-534