10.3321/j.issn:0567-7351.2008.14.019
聚合物基ZnO纳米线的制备和生长机理研究
采用独特的高分子溶液自组装生长方法,在经化学镀预处理的基底上利用高分子溶液的网络络合效应制备了ZnO纳米线.通过场发射扫描电子显微镜(FE-SEM),X射线能谱仪(EDS)等对样品的表面形貌及组成进行了观测表征.结果显示,纳米线直径约50 nm,长度达到了数微米;产物Zn、O化学计量比接近1:1.通过Si基底经化学镀工艺预处理和未经化学镀预处理对ZnO纳米结构、紫外吸收和PL性能影响的分析比较,发现了化学镀Ni对于纳米线长度和直径尺寸的控制更为有效;在PL图谱中,经化学镀预处理的样品在中心波长385 nm出现了由激子碰撞复合所形成的近紫外发光峰.进一步还分析了在不同的pH值和反应时间下样品的紫外吸收和光致发光性能.通过以上实验,讨论并提出了ZnO纳米线的生长机理及过程,认为纳米线的生长是在化学镀催化剂和高分子双重作用下进行的.
ZnO纳米线、化学镀Ni、自组装、光致发光(PL)、紫外吸收
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TB3;TP2
上海市教委重点科研项07ZZ13;上海市教委科技发展基金03AK30
2008-09-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
1713-1719