10.3321/j.issn:0567-7351.2004.20.008
纳米二氧化硅对镍电沉积影响及在复合镀层中的化学键合状态
用线性扫描伏安法和电位阶跃法研究了n-SiO2/Ni复合电刷镀体系的电化学响应,探讨了纳米颗粒的影响;用X射线光电子谱研究了复合镀层中n-SiO2颗粒表面与基质金属间的相互作用.结果表明纳米颗粒使金属沉积过电位显著降低,电流效率、金属成核率及晶体生长速度增加,纳米颗粒对金属镍电结晶有明显的催化效应;n-SiO2表面氧的不饱和化学键与表面扩散过程中吸附态金属Ni原子键合形成Ni-O键,纳米颗粒与基质镍以化学键方式结合.
纳米颗粒、复合电沉积、化学键合、共沉积机理
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O6(化学)
国家重点基础研究发展计划973计划G1999065009;国家自然科学基金50235030;中-英合作项目2002M3
2005-09-22(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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2010-2014