二甲胺同步辐射光电离解离机理的质谱研究

摘要：

利用同步辐射光源,结合飞行时间质谱,在超声射流冷却条件下研究了(CH3)2NH(DMA)的光电离解离机理.实验观察到四种主要离子(CH3)2NH·,CH3NH+Ch2,CH2NH2+和CHNH+,质荷比分别为m/z=45,44,30和28.四种离子的出现势(AE)分别为8.26,9.52,11.93和11.27eV,其中分子电离势IP=(8.26±0.01)eV,计算得到分子离子的生成热△fH°=778.55 kJ/mol.分析表明离子CH3NH+CH2来自母体离子的α去H过程.其他碎片离子由后续逐级解离去H反应以及脱CH3通道生成.

关键词：同步辐射光电离、(CH3)2NH、出现势

所属期刊栏目：60

分类号：O6(化学)

在线出版日期：2004-08-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：825-829