气相沉积技术在制备高折射率光子晶体中的应用研究

摘要：

采用激光全息光刻技术或激光直写技术制作微结构具有便捷、灵活、高效等优势,目前已成为研究制备光子晶体的一种有效方法.用全息光刻技术所制备的微结构的特点是单晶面积大(即内部结构缺陷较少)和可根据需要制作研究多种周期或准周期的晶格结构.但是所制备的结构由于感光树脂与空气的折射率比值较低,不能得到完全带隙光子晶体.从而使其应用受到局限性.以此树脂结构为模板,通过各种方法对其进行二次加工,制作高介电常数材料的反结构,近期已成为研究热点.本文介绍了气相沉积技术在制备高折射率光子晶体方面的应用和研究进展.

关键词：原子层沉积、化学气相沉积、激光全息光刻、激光直写技术

在线出版日期：2013-01-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

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