两种工业合成单硅烷的工艺介绍

摘要：

单硅烷(SiH4)作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造多种高纯度晶体硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅及金属硅化物,详细介绍了硅化镁法和还原法制备SiH4的工艺.硅化镁法的优点是工艺简单、成熟,原料易得；其缺点是分离和回收液氨时能耗大,SiH4收率相对较低.还原法的优点是可实现连续化生产、反应易于控制.

关键词：单硅烷、硅化镁法、还原法、四氯硅烷、三氯硅烷

所属期刊栏目：53

分类号：TQ127.2

在线出版日期：2012-04-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：52-55