专利摘要
匀胶清洗装置及匀胶清洗方法公开（公告）号：CN102489464A公开（公告）日：2012.06.13发明（设计）人：王友旺;林盛浩;裴新;胡华摘要：本发明涉及一种匀胶清洗装置,包括清洗系统,所述清洗系统包括用于盛放清洗液的液罐、控制开关组件、喷头以及将三者连接的水管,所述喷头用于对准硅片的背面、喷射清洗液对硅片背面进行清洗。本发明还涉及一种匀胶清洗方法。本发明通过喷射清洗液对硅片背面进行清洗，可以将甩胶时被甩到硅片背面的光刻胶清洗掉，消除硅片背面的沾污，从而提高良品率。反渗透膜钙垢清洗方法
摘要、清洗方法、专利、清洗装置、清洗系统、清洗液、控制开关、反渗透膜
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TN304.12(半导体技术)
2012-09-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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