10.3969/j.issn.1671-8909.2005.04.008
常压冷等离子体清洗技术在微电子工业中的应用
介绍常压射频冷等离子体清洗设备工作原理以及在微电子工业中的应用,给出用常压冷等离子体清洗设备去除光刻胶的实验结果,简单阐述该技术将对微电子工业工艺过程带来的影响.
常压等离子体、微电子、清洗、应用
21
O46;TN409(真空电子学(电子物理学))
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
33-36
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10.3969/j.issn.1671-8909.2005.04.008
常压等离子体、微电子、清洗、应用
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O46;TN409(真空电子学(电子物理学))
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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