不同浓度地塞米松对小鼠腭胚突间充质细胞作用规律的研究

摘要：

目的 研究细胞水平地塞米松(Dex)致腭裂畸形的生物学机制,筛选出影响腭胚突间充质(EPM)细胞生长的地塞米松最适浓度.方法 腭胚突问充质细胞进行原代培养,实验组细胞分别以1×l0-9、1×10-8、1×10-7和1×10-6mol·L-1地塞米松加以干预,MTT比色法检测各组细胞的增殖率,碘化丙啶(PI)染色观察各组细胞的凋亡情况.结果 在血清质量分数为10%条件下,随着Dex浓度的增加,细胞增殖率降低.第3天达到了地塞米松药物作用的最高峰.Dex浓度为1×10-6mol·L-1组与对照组相比,各时段的P值均小于0.01.结论 地塞米松在加药后第3天药物作用最显著,之后随着药物的代谢,作用减弱:浓度1×10-6mol·L-1的地塞米松,既有一定程度的抑制EPM细胞生长的作用,又不会导致大量的细胞死亡.其可作为在细胞水平研究地塞米松致畸的生物学机制的最适浓度.

关键词：地塞米松、腭胚突间充质细胞、腭裂

所属期刊栏目：29

分类号：R782.2(口腔科学)

资助基金：国家自然科学基金重点资助项目30530730:高等学校博士学科点专项科研基金资助项目20060610081;省科技支撑计划基金资助项目2009SZ0197

在线出版日期：2011-06-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：206-209,224