真空镀膜技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度影响的研究

摘要：

目的 研究一种新的工程学真空镀膜技术--等离子磁控反应溅射技术对新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的影响.方法 用DA9-4烤瓷支架钴铬合金制成标准金属基片,并在金属基片上瓷前利用等离子磁控反应溅射技术在其表面溅射生成一层Al2O3陶瓷薄膜,对其表面形貌、结构、厚度进行分析;金属基片与VMK95瓷粉烧结形成标准三点弯曲试件,测定其结合强度,观察金瓷界面的形貌及元素分布情况.同时,以未进行溅射镀膜基片作为对照.结果 溅射镀膜组金瓷结合强度为(180.55±16.45)MPa,对照组(143.80±24.49)MPa.经统计学分析,溅射镀膜后的金瓷结合强度明显高于对照组(P＜0.01).结论 等离子磁控反应溅射技术有改善新型牙用烤瓷支架钴铬合金金瓷结合强度的作用.

关键词：磁控反应溅射技术、钴铬合金、结合强度

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分类号：R783.5(口腔科学)

资助基金：教育部高等学校博士学科点专项科研基金200206-10066

在线出版日期：2007-12-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：513-516