光伏硅片无磷清洗剂的配方设计与应用

摘要：

太阳能级硅片在金刚线切割和打磨过程中会受到严重沾污,需要采用物理或化学方法去除其表面的污染物,以符合洁净度和表面状态的要求.为减少对硅片的过度腐蚀以及保持清洗工作液的持久性,通过正交实验,确定了表面活性剂A组分和碱剂B组分的最佳配比.表面活性剂A组分最佳配比为无磷乙二胺二邻苯基乙酸钠∶PO嵌段FMEE∶喜赫FMES∶伯烷基磺酸钠PAS∶烷基糖苷APG=7∶8∶3∶5∶3.碱剂B组分最佳配比为KOH∶NaOH∶Na2SiO3·5H2O∶Na2CO3=3∶1∶2∶2,产品环保、无磷、碱性适中,清洗时间短,对Si粉和金属氧化膜去除效果好,洗后的Si片表面光滑无凹坑、线痕等现象.

关键词：硅片、无磷、复配、腐蚀、耐久性

所属期刊栏目：37

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2023-03-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：85-88