10.16247/j.cnki.23-1171/tq.20220204
IA/AA/AMPS/HPMA四元聚合物的合成及其性能
采用水溶液聚合法制备得到四元聚合物阻垢剂(IA/AA/AMPS/HPMA),并对其进行定性表征分析(核磁共振氢谱分析、红外光谱分析、XRD分析、GPC分析、热重分析).基于单因素法,通过静态阻垢试验对此阻垢剂的阻垢性能进行了分析.结合实验数据可知,在80℃温度条件下,采用8%引发剂,按照mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1的比例进行3h的反应是最佳合成条件.在70℃阻垢温度下投入40mg·L-1该聚合物阻垢剂,进行10h的阻垢反应,可以成功阻垢84.5%的CaCO3;在40℃阻垢温度下,投入同等量的阻垢剂,反应6h,可成功阻垢84.2%的CaSO4.
水溶液聚合、四元聚合物、静态阻垢、阻垢性能
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TE39(油气田开发与开采)
陕西省重点研发计划项目2021SF-488
2022-04-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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