HR-ICP-MS测定电子级氨中的痕量杂质

摘要：

电子级超纯氨是半导体产业上游关键配套原材料,其痕量杂质含量直接影响材料的光学及电学性能乃至器件的使用寿命,是半导体产业链发展中一个重要环节.本文采用高分辨电感耦合等离子质谱仪(HR-ICP-MS)标准加入法检测电子级氨水中痕量杂质元素,回收率在92.1％～119.6％之间,重复性在0.2％～3.9％,检测限能满足电子级氨中杂质含量在(0.1～1.0)μg·kg-1的测试需求.

关键词：超纯氨;HR-ICP-MS;标准加入法;痕量杂质

分类号：O657.6(分析化学)

资助基金：上海市科学技术委员会科技项目19142201800

在线出版日期：2021-10-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：17-21