NaOH溶液对多孔硅后处理的研究

摘要：

用强碱溶液后处理多孔硅的方法常被用来打开表面孔洞,以便生物化学分子更好的进入孔洞而实现传感检测的目的.对于纳米多孔硅,碱溶液处理带来的孔洞直径的增加不可忽视,而对此的相关研究未见报道.本文用浓度分别为1、3和15m mol·L-1的NaOH溶液对多孔硅进行后处理研究,处理时间从1 min到30min.用NaOH溶液处理以后的多孔硅,孔径大小会改变,从而孔隙率改变导致多孔硅的折射率改变.测量不同条件下后处理多孔硅的反射光谱时反射谱会发生平移.实验结果表明:单层多孔硅和多层多孔硅,随着处理时间增加,NaOH溶液浓度增大,反射谱波峰会向波长小的方向移动,即发生蓝移.当NaOH溶液浓度达到15mM,浸泡时间达到8min时,多孔硅结构遭到破坏.

关键词：多孔硅、NaOH溶液、后处理

分类号：O649.2;O433.1(物理化学（理论化学）、化学物理学)

在线出版日期：2018-06-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：70-73